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专利号:202520413141.X
特点: CCUS气体分布装置,当气体进入气体通道流动时,气体能够通过两组第一导流叶片向该CCUS气体分布装置的两侧扩散,实现气体在水平面的均匀分布,同时气体还能够通过上框架的通气孔向上方扩散,从而实现气体向该CCUS气体分布装置上方的流动,实现上方气体的补偿分布,加快气体流动效率,提供了更大的气相平衡空间,提高气体均匀分布的效果,能够降低制造成本。
专利号:202520413141.X
特点: CCUS气体分布装置,当气体进入气体通道流动时,气体能够通过两组第一导流叶片向该CCUS气体分布装置的两侧扩散,实现气体在水平面的均匀分布,同时气体还能够通过上框架的通气孔向上方扩散,从而实现气体向该CCUS气体分布装置上方的流动,实现上方气体的补偿分布,加快气体流动效率,提供了更大的气相平衡空间,提高气体均匀分布的效果,能够降低制造成本。